HDI(HighDensityInterconnect)高密度互连技术是一种在半导体封装中应用的技术,随着集成度的提高、封装高度的增加,传统的PCB(PrintedCircuitBoard)已无法满足需求。HDI技术的出现填补了空白,因其具有小尺寸、高密度、高可靠性的特点,得到了广泛应用。
HDI生产工艺流程主要包括设计、材料准备、激光开孔、压制、蚀刻、镀覆、插件和测试等八个大的流程。
首先是设计环节,根据客户需求,进行电路图设计,确定板层结构和堆叠方式。
接下来是材料准备,选用符合相关标准的基板材料、覆铜膜、覆盖层和内部层等,确保产品质量。
激光开孔是核心环节之一,利用激光技术在板上加工出细小的孔,实现电路的连接。
压制环节将内外层板材通过热压工艺进行固化,成为压缩型电路板,保证电路板的严密性和稳定性。
蚀刻环节通过化学方法除去覆铜膜上不需要的部分,保留下需要的导电路径。
镀覆环节对板面进行电镀处理,使其具备良好的导电能力和抗氧化性能。
接下来是插件环节,将元器件插入到电路板上,进行焊接固定。
最后是测试环节,通过严格的测试和检验,确保产品的质量和性能。
综上所述,HDI生产工艺流程包括设计、材料准备、激光开孔、压制、蚀刻、镀覆、插件和测试等八大流程。这些环节相互配合,确保了HDI产品的质量和可靠性。作为一种应用广泛的技术,HDI在电子领域有着重要的地位和作用。
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